重生乡村文艺生活

        “这一代分步式投影光刻机光刻精度可以达到3微米，在当时接近国际主流水平。”

        何平这几年偶尔会搜集一些国内外关于半导体的资料，知道国外自七十年代就已经把研究发向转向了接近式光刻机，看来国内外的差距还是有不小的。

        这种情况让他陷入了沉思。

        后世一些民科经常会说我们国家七八十年代光刻机的研究水平与欧美日等发达国家不分伯仲，只是到了九十年代，大家都觉得造不如买，才放弃了自主研发，让国产光刻机事业十年难有寸进，导致后世发生中美贸易摩擦后被国外卡脖子的现象。

        这种论调不能说子虚乌有，但只能说是以偏概全。

        实际上的情况是1978年之前，经过二十多年的努力，我们国家的光刻机技术已经与西方拉近到十几年。

        但在1978年之后，西方推出了成熟的分步投影光刻机，而我们的半自动接触式光刻机刚刚研制成功，双方的差距被维持在了一个相当的水平线上。

        在这个时候，国内的光刻机研发和制造在七八十年代确实有一度缩小了与发达国家的差距，但这里有一个问题，就是当时我们的研究方向还在接触式光刻机上，而发达国家早在七十年代就开始把研究方向转向了投影式光刻机，接近式光刻机便是其中的一种。

        而国家也并没有在九十年代放弃光刻机的研发，只是受限于经济实力的因素，没有那么大的支持力度而已。

        这种情况一直到两千年以后才得到改善，国家的“十五”计划成立了光刻机攻关项目，由沪上微电子担当大任。

        从此国家才算是在国产光刻机研发上下了重注。

        而何平沉思的原因在于，他在考虑自己要不要在光刻机研发上出一把力。

        光刻机称得上是国之重器，想要研发成功也往往是以国家实力为背书，后世光刻机制造全球领先的荷兰ASML也不是凭着自己的一己之力完成的他们的光刻机，而是联合了全世界几十个国家的力量才得以成功，他们制造光刻机的关键技术更是垄断在阿美利加的手上。

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